litografia

EVG®7300: Nowy wielofunkcyjny system do mikro/nanosteplowania i składania soczewek z Grupy EV do produkcji przyrządów optycznych

18 stycznia 2022 r. — Grupa EV wprowadziła zautomatyzowany system EVG®7300 do nanostęplowania SmartNIL® i systemów optycznych na poziomie warstwy. Najbardziej zaawansowane rozwiązanie firmy łączące w jednej platformie wiele możliwości procesów opartych na UV, takich jak litografia nanostemplowania (NIL), formowanie soczewek i układanie soczewek w stos (klejenie UV). Ten gotowy do zastosowania w przemyśle, wielofunkcyjny system został zaprojektowany z myślą o zaspokojeniu zaawansowanych potrzeb badawczo-rozwojowych i produkcyjnych w szerokim zakresie […]

więcej

Litografia – nowe oblicze popularnej techniki top-down

Jak wiadomo – jednym z popularniejszych w nanotechnologii procesów typu top-down jest litografia. Zyskała powszechność swojego zastosowania, dzięki wykorzystywaniu do budowy między innymi układów scalonych. Jednak mimo wielu swoich zalet postanowiono ulepszyć pod kątem zniwelowania produktów ubocznych i wygładzania otrzymanej, szorstkiej powierzchni. Jej nowe oblicze jest genialne w swojej prostocie.  W standardowej litografii folia światłoczuła jest osadzana na płytce krzemowej, a wzór nazywany „maską” […]

więcej

Tworzenie aktywnych optycznie struktur możliwe przy użyciu DNA, nanocząstek i litografii

Naukowcy z Northwestern University opracowali jedyną w swoim rodzaju technikę tworzenia całkowicie nowych klas materiałów i urządzeń optycznych. Zespół naukowców wykorzystał złote nanocząsteczki o różnych rozmiarach i kształtach oraz nici DNA i ułożył je w dwóch i trzech wymiarach, tworząc optycznie aktywne supersieci. Struktury o określonych konfiguracjach można zaprogramować poprzez wybór typu cząstek, jak i ich sekwencji, aby umożliwić wykazywanie praktycznie dowolnego koloru w całym spektrum widzialnym. Naukowcy […]

więcej

Raith NANO 2016: 22 Seminarium na temat elektronolitografii i litografii wiązką jonową w nanotechnologii

Przypominamy o organizowanym przez firmę Raith seminarium NANO w Dortmundzie w dniach 15-17 lutego 2016 roku. Tematem seminarium jest litografia wiązką elektronów i jonów. Połączenie edukacyjnych prezentacji, rozmowy z zaproszonymi renomowanymi prelegentami i praktyczne demonstracje wyjaśnią w jaki sposób urządzenia Raith’a mogą rozwiązać zadania najbardziej zaawansowanych technologii nano wytwarzania. Zaproszeni w tym roku prelegenci: Dr. Georg Schmidt / Martin-Luther-University Halle-Wittenberg, Germany „Electron Beam Lithography with […]

więcej

Raith NANO 2016: 22 Seminarium na temat elektronolitografii i litografii wiązką jonową w nanotechnologii

Już po raz 22 firma Raith, wiodący dostawca urządzeń do nano litografii, zaprasza naukowców do wzięcia udziału w seminarium NANO w Dortmundzie. Tematem seminarium jest litografia wiązką elektronów i jonów. Połączenie edukacyjnych prezentacji, rozmowy z zaproszonymi renomowanymi prelegentami i praktyczne demonstracje wyjaśnią w jaki sposób urządzenia Raith’a mogą rozwiązać zadania najbardziej zaawansowanych technologii nano wytwarzania. Dla wszystkich naukowców, którzy planują zakup systemu do litografii lub którzy chcą […]

więcej