Aktualności
Przypominamy o organizowanym przez firmę Raith seminarium NANO w Dortmundzie w dniach 15-17 lutego 2016 roku.
Tematem seminarium jest litografia wiązką elektronów i jonów.
Połączenie edukacyjnych prezentacji, rozmowy z zaproszonymi renomowanymi prelegentami i praktyczne demonstracje wyjaśnią w jaki sposób urządzenia Raith’a mogą rozwiązać zadania najbardziej zaawansowanych technologii nano wytwarzania.
Zaproszeni w tym roku prelegenci:
- Dr. Georg Schmidt / Martin-Luther-University Halle-Wittenberg, Germany
„Electron Beam Lithography with special resist” - Dr. Dan Read / Cardiff University,UK
„Electron beam lithography for condensed matter physics research at Cardiff University” - Denis Presnov / Moscow State University, Russia
„Electron Beam Lithography on the chip edge for the local probe with active nanosensor” - Janne Laukkanen / University of Eastern Finland, Joensuu, Finland
„Micro- and Nanostructures for Photonics Applications” - Dr. Claus J. Burkhardt / NMI Naturwissenschaftliches und Medizinisches Institut, Reutlingen, Germany
„FIB for rapid prototyping of nano sensors”
Dla wszystkich naukowców, którzy planują zakup systemu do litografii lub którzy chcą zorientować się w tym temacie uczestniczenie w tej imprezie powinno być koniecznością.
Seminarium Raith’a NANO2016 rozpoczyna się 15 lutego wieczorem powitalnym spotkaniem, a kończy w środę 17 lutego późnym popołudniem.
Wstępny program:
https://www.raith.com/files/PDF%20Downloads/Nano2016-Agenda-preliminary.pdf
Ostateczny termin rejestracji 1 lutego 2016.
Rejestracja na stronie:
https://www.raith.com/events/training-education/nanolithography-seminars/raith-nano-2016.html
Jeśli macie Państwo pytania, prosimy o kontakt z Christel Rückstein (christel.rueckstein@raith.de; telefon +49 231 950 04 110)
lub
polskie biuro kontaktowe Raith’a: Katarzyna Piekarska (kasiapiekarska@home.pl; telefon +48 22 872 1077)
Członkowie Klastra
Zostań członkiem klastra
